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低氧三氣培養(yǎng)箱
低氧三氣培養(yǎng)箱
簡(jiǎn)要描述:

低氧三氣培養(yǎng)箱三氣培養(yǎng)箱通過(guò)模擬微生物、組織、細(xì)胞等生長(zhǎng)環(huán)境,提供穩(wěn)定的溫濕度、二氧化碳濃度和氧氣濃度,應(yīng)用于細(xì)胞、組織培養(yǎng)和某些特殊微生物的繁殖和培養(yǎng)。

更新時(shí)間:2024-06-14

訪問(wèn)量:3085

產(chǎn)品型號(hào):CHSQ-100-III

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

品牌其他品牌濕度范圍40-95%RH
控溫范圍Rt+3-60℃℃容量規(guī)格100升
溫度均勻性±0.3(@37)℃價(jià)格區(qū)間2萬(wàn)-5萬(wàn)
應(yīng)用領(lǐng)域環(huán)保,食品,生物產(chǎn)業(yè)

低氧三氣培養(yǎng)箱1.CO2氣體濃度檢測(cè)采用IR紅外傳感器,計(jì)算出CO2氣體濃度。工作時(shí),傳感器無(wú)機(jī)械磨損,響應(yīng)速度快,可靠性能高,穩(wěn)定性能好,且使用壽命長(zhǎng)。

2.O2氣體濃度檢測(cè)采用進(jìn)口電化學(xué)氧氣傳感器,具有線性度好,檢測(cè)準(zhǔn)確等特點(diǎn),壽命長(zhǎng),能充分滿足用戶需要。

3.溫度檢測(cè)全部采用進(jìn)口PT100電阻溫度傳感器,性能穩(wěn)定,線性度好。獨(dú)立套溫和門溫控制,由五個(gè)面的套溫和一個(gè)面的門溫合成工作室溫度,準(zhǔn)確度高。

4.O2氣體濃度小于19.8%時(shí),采用高純N2氣體和CO2氣體,保證CO2氣體濃度和O2濃度的準(zhǔn)確性。

5.O2氣體濃度大于23%時(shí),采用高純O2氣體和CO2氣體,保證CO2氣體濃度和O2濃度的準(zhǔn)確性。

6.箱內(nèi)采用微風(fēng)循環(huán)方式,使空氣循環(huán)接近自然界空氣對(duì)流,縮短溫度、濕度、O2濃度和CO2濃度的恢復(fù)時(shí)間,確保溫度、濕度、O2濃度和CO2濃度的均衡性。

7.箱門打開時(shí),電磁閥自動(dòng)關(guān)閉微風(fēng)循環(huán)自動(dòng)停止,減少氣體損失節(jié)約氣源,減少外界空氣進(jìn)入箱內(nèi)而造成的污染。

8.單獨(dú)的門溫控制系統(tǒng),使箱內(nèi)恒溫控制極少受到環(huán)境溫度變化的影響。

9.溫度、氣體濃度,均采用數(shù)字顯示,直觀、清晰、準(zhǔn)確。

10.具有多種保護(hù)功能,當(dāng)顯示溫度超過(guò)預(yù)置溫度時(shí),可自動(dòng)切斷全部加熱電源。具有獨(dú)立的超溫繼電保護(hù)功能,保證溫度不超過(guò)預(yù)置值。11.水盤自然蒸發(fā)加濕,濕度達(dá)到95%,304不銹鋼材質(zhì),圓弧,易清潔。

12.滅菌系統(tǒng):紫外燈滅菌,靈活可控,操作時(shí)間短。

低氧三氣培養(yǎng)箱細(xì)胞培養(yǎng)箱及其工作方法與流程
內(nèi)容
背景技術(shù):
細(xì)胞培養(yǎng)需要提供合適的溫度和氣體環(huán)境,因此一般采用培養(yǎng)箱的形式來(lái)滿足細(xì)胞培養(yǎng)的要求。目前培養(yǎng)箱的加熱方式主要有氣套式加熱,水套式加熱,直熱式加熱,并且氣體檢測(cè)大多采用原位測(cè)量的方式。氣套式加熱,水套式加熱,直熱式加熱都能滿足培養(yǎng)箱的溫度控制,氣體的檢測(cè)方式主要采用原位測(cè)量的方式,傳感器通過(guò)深入培養(yǎng)箱內(nèi)部的形式測(cè)量。
但是原位測(cè)量技術(shù)主要存在以下不足:傳感器模塊不利于直接校正,需要有額外的部件或者取下傳感器進(jìn)行校正。另外現(xiàn)有的旁路檢測(cè)方式,往往會(huì)造成氣路管道積水,造成設(shè)備損壞。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
為解決上述現(xiàn)有技術(shù)方案中的不足,本發(fā)明提供了一種校正方便、取樣管道內(nèi)無(wú)凝水的細(xì)胞培養(yǎng)箱。
本發(fā)明的目的是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
一種細(xì)胞培養(yǎng)箱,所述細(xì)胞培養(yǎng)箱包括培養(yǎng)腔,所述培養(yǎng)腔內(nèi)設(shè)置溫度傳感器、加熱部件;所述細(xì)胞培養(yǎng)箱進(jìn)一步包括:
檢測(cè)腔,所述檢測(cè)腔內(nèi)部設(shè)置:
管道,所述管道連通所述培養(yǎng)腔,取樣培養(yǎng)腔內(nèi)的氣體;
DI二管道,所述DI二管道連通所述培養(yǎng)腔,將取樣的氣體送回培養(yǎng)腔內(nèi);
檢測(cè)儀,所述檢測(cè)儀分析通過(guò)管道取樣的氣體;
DI二溫度傳感器,所述DI二溫度傳感器檢測(cè)取樣的氣體的溫度;
加熱器,所述加熱器設(shè)置在所述檢測(cè)腔內(nèi)。
根據(jù)上述的細(xì)胞培養(yǎng)箱,可選地,所述細(xì)胞培養(yǎng)箱進(jìn)一步包括:
隔熱層,所述隔熱層設(shè)置在所述檢測(cè)腔和培養(yǎng)腔之間。
根據(jù)上述的細(xì)胞培養(yǎng)箱,優(yōu)選地,所述加熱部件包括加熱片,設(shè)置在培養(yǎng)腔內(nèi)的頂壁、下壁和側(cè)壁。
根據(jù)上述的細(xì)胞培養(yǎng)箱,優(yōu)選地,所述溫度傳感器設(shè)置在所述培養(yǎng)腔內(nèi)的上部。

低氧三氣培養(yǎng)箱圖1示意性地給出了本發(fā)明實(shí)施例1的細(xì)胞培養(yǎng)箱的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)圖,如圖1所示,所述細(xì)胞培養(yǎng)箱包括:
培養(yǎng)腔1,所述培養(yǎng)腔內(nèi)設(shè)置溫度傳感器、加熱部件;
檢測(cè)腔11,所述檢測(cè)腔內(nèi)部設(shè)置:
管道4,所述管道連通所述培養(yǎng)腔,取樣培養(yǎng)腔內(nèi)的氣體;
DI二管道14,所述DI二管道連通所述培養(yǎng)腔,將取樣的氣體送回培養(yǎng)腔內(nèi);
檢測(cè)儀5,所述檢測(cè)儀分析通過(guò)管道取樣的氣體;
DI二溫度傳感器7,所述DI二溫度傳感器檢測(cè)取樣的氣體的溫度;
加熱器6,所述加熱器設(shè)置在所述檢測(cè)腔內(nèi)。
為了防止溫控的相互影響,進(jìn)一步地,所述細(xì)胞培養(yǎng)箱進(jìn)一步包括:
隔熱層3,所述隔熱層設(shè)置在所述檢測(cè)腔和培養(yǎng)腔之間。
為了提供加熱的效率和均勻性,進(jìn)一步地,所述加熱部件包括加熱片2,設(shè)置在培養(yǎng)腔內(nèi)的頂壁、下壁和側(cè)壁。
為了減小氣體對(duì)檢測(cè)儀的不利影響以保證氣體的清潔度,進(jìn)一步地,所述細(xì)胞培養(yǎng)箱進(jìn)一步包括:
過(guò)濾器10,所述過(guò)濾器設(shè)置在所述管道的入口端。
本發(fā)明實(shí)施例的上述細(xì)胞培養(yǎng)箱的工作方法,所述工作方法包括以下步驟:
(A1)溫度傳感器輸出溫度值A(chǔ);DI二溫度傳感器輸出溫度值B;
(A2)判斷溫度差(B-A)是否處于區(qū)間[ΔT+C,ΔT+D]內(nèi),C、D為常數(shù);常數(shù)C、D人為設(shè)定,以取樣管道內(nèi)沒(méi)有凝水為準(zhǔn);ΔT=k•x2+0.013•x+0.05;k=-2×10-8•y2-3×10-6•y+0.0001,x為培養(yǎng)腔中心9與頂壁的間距,y為培養(yǎng)腔中心到側(cè)壁的間距;x、y的單位是cm;
如溫度差處于上述區(qū)間內(nèi),無(wú)需調(diào)整;
如溫度差不處于上述區(qū)間內(nèi),進(jìn)入下一步驟;
(A3)調(diào)整加熱器的工作狀態(tài),進(jìn)入步驟(A1)。

 

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